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한국화학연구소 환경기술 연구개발 사업-저공해 염색 가공기술

개발 목적 : 수세탁이 가능한 가죽의 전사날염 제품 개발

● 기술개발 기간 : 1995.12 ~ 1998.11(2년10개월)

● 기술개발비용 및 개발비 지원처 : 643,000천원

    대한민국 환경부 : 533,000천원,   기업 : 110,000천원

● 기술개발참여자 : 오세화, 김태경, 김영석, 송미경, 이미우

 

기술개발의 내용 및 방법

1. 표면개질 가공

: 수불용성 염료인 분산염료가 염착이 가능하도록 피혁표면의 개질을 위한 가공제 합성 및 적용연구

2. 수세탁 가공

: 피혁제품의 수세탁, 드라이크리닝 등 각종 견뢰도를 향상시키기위  한 후처리 가공제와 염료간의 상용성, 선정 및 처리법 연구

 

●환경 개선효과

항목

기존방법

개발기술

비고

염색공정시간

8시간

1분

생산성 향상

염료의 독성

중금속 함유

중금속 비함유

 

에너지 소모

매우 큼

적음

 

페수 발생량

매우 큼

거의 없음

 

취금성

드라이크리닝

물세탁 가능

유기용제 비사용

작업공간

대공간 요함

소공간에서 가능

 

기술개발의 기대효과

세계는 선진국들의 구매자들 중심으로 공급사슬을 통한 생산공정의 청정화가 추진되고 있어, 앞으로는 인체에 무해하고 환경 친화적인 제품만이 자유롭게 유통될 수 있다. 가죽의 전사날염 생산과정에서 사용되는 화학약품(염료 및 가공제)이나 공정(탄닝 및 염색)이 모두 기존의 것보다 청정하며, 그 제품은 현재까지 낼 수 없었던 다양한 무늬와 색상을 표현하여 고부가 가치성을 갖는다. 화려한 여성 의류용 피혁제품 외에도 소파, 구두, 가방, 장신구 등 그 적용범위가 넓어 침체되어 있는 피혁 수출의 재기에 발판이 될 것이다.

 

타 산업분야의 응용성 및 파급효과

본 연구는 분산염료가 염착될 수 없는 많은 기질(면, 폴리우레탄, 종이 등) 위에 개발한 표면 개질제를 처리해 줌으로써 여러 분야에 응용될 수 있다. 일반적인 날염 공정보다 에너지와 시간을 줄일 수 있고 환경오염도 없어 앞으로 많이 사용될 수 있는 기술이다. 기존의 공정에서 생긴 오염을 후처리로 청정화하는 대신 공정 자체가 오염이 없는 원천 청정공정을 도입함으로써 청정생산이 가능함 을 보여준 예이다. 본 연구는 오염이 극심한 가죽의 염색공정에 물이 전혀 필요 없는 전사 날염법을 적용하여 공장내의 환경을 개선하고 에너지를 크게 절감시켰고 최신 유행하는 다양한 색상과 무늬를 갖는 제품을 단 시간 내에 대응 생산할 수 있어  높은 경쟁력을 갖고 있다.

 

추천기술 관련 발표현황

● 특허

: 출원번호 99-1697

●학술회 발표

: 한국 청정기술 학회(1998.11.13)

●전시회

: 홍콩 Convention Center(1996.04)

 

Disc Screen :

 

종래의 Frictional Gap Device를 대체하는 혁신적인 액/비드 분리를 위한 장치로 정밀한 분산시 효과적이며 비드의 마모 또한 감소시키는 역할을 한다

Pinned Disk :

 

강한 내산 및 내마모성 재질을 사용한 신 개념의 Disc로서 내구성을 요하는 제품의 분산에 효과적이다.

Dial Gauge :

 

외부에서 Frictional Gap Device의 틈을 아나로그 계기를 통하여 조절을 편리하게 할 수 있는 장치로 기계의 분해 없이 요구 분산도에 부응할 수 있다.

Perforated Disc :

 

비드의 분포를 균일하게 유지하는 역할을 하도록 독특하게 Design 된 타공 Disc로서 Vessel의 부분적인 마모를 방지한다.

설비명

규격(가공능력)

수량

제작처

제작년도

선반

580X2000 in ㎜

1

Namsun M/C

 

710X2000 in ㎜

1

Hwachon M/C

 

600X3000 in ㎜

1

Hwachon M/C

 

Milling Machine

No. 2.5

1

 

 

Desk Drilling Machine

 

3

 

 

Tapping Machine

 

1

 

 

Radial Drilling Machine

 

1

 

 

Argon Welding Machine

 

1

 

 

General Welding Machine

 

7

 

 

Plasma Cutting Machine

 

1

 

 

V. Calipers

0~1000 in ㎜

2

 

 

Micro Meter

0~300  in ㎜

1

 

 

Cylinder Gauge

0~400  in ㎜

1

 

 

Others

 

 

 

 

특허 출원 번호 : 99-1697
Multi-pass 3 layer cooling design on the vessel of agitator bead mill : Makes it possible cut-down of the loss of solvents with complete cooling designs of grinding vessels
가죽제품
 
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